武汉某半导体设备电源芯片生产手工加工厂，晶圆手工加工步骤中存在含硅、氟的特异污废水 正确处置工艺，设计方案正确处置投资额1200吨/日。污废水 正确处置工艺组分较为复杂，有奈米级硅颗粒剂及氢佛酸，传统文化正确处置最简单的方法不好达到。 污废水 材质及的来源 注意影响物 ：胶体溶液硅（100-500nm孔径）、氟化合物（200-300mg/L）、异丙醇 起源工艺 ：晶圆刻蚀废气处理方法（45%）、CMP化学工业厂家抛光剂废气处理方法（40%）、系统冲刷水（15%） 补救制作工艺程序流程 企业创新主要包括"化学物质放置+特别膜脱离"方法路线规划： 钙盐水解 ：添加氯化钙出掉氟阴离子（转为CaF2沉定） 水解酸化池发应 ：pp斜管沉淀池剂完成电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔的直径膜虚报冒领微细颗料 反加入系统的 ：脱盐率>98%，收购率75% 蒸发器结晶体 ：浓水段建立氟化物零释放 不可能效用 氟化物浓度值：<8mg/L（达不到一个国家一个原则10mg/L） 硅分子量：<5mg/L 水的资源工业废水处理率：70%在冷确塔补充水分 垃圾减轻：蒸发掉残余物量较老式施工工艺才能减少60%