某半导体技术研制工厂因晶圆除污环节导致含氨化工废水，发电量200吨/天。化工废水里面除氯离子外还含有氟化物和氢化物发生器巨资属，解决难易大。偏远地区产生标准单位需求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 生产废水组成及原因 晶圆的清洗污水（核心收入）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废水处理：含微量分析铜、镍等高价属，pH值下降大 CMP研磨设备污水：含硅粉末及化学需氧量 办理加工过程流程图 选择"化工沉垫+膜破乳+折点氯化"组和工艺设备： 工艺处理 ：添加CaCl2除氟，控住pH在7.5-8. 反渗透装置设备 ：快速清理0.01μm往上颗料物 反浸入浓缩咖啡 ：将化学需氧量提液至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精确度管控氯添加量，将氯离子转换为惰性气体 阳离子互转 ：保障机制巨资属未达标 结果郊果 挥发酚稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属含磷量降至检则限 水工业废水处理率达75% 污泥处理形成量变少40%