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半导体生产废水处理案例|半导体生产废水处理方法

创业项目背景图 该半导体设备制造技术物流轻工业园区在华中中北部,总的投资高达2006亿,主耍生产方式124英寸晶圆和专业芯片封装类产品。物流轻工业园区日的直接摆放废供水量约5000吨,蕴含多样施工工艺污废气 ,工作难易大。工程必须污废气 工作后满足《电子元器件轻工业水环境挥发性有机物的直接摆放条件》(GB 39731-2020)相当的直接摆放标准值,大部分使用率不小于60%。 废液组成成分及来原 含氟废液:最主要来源于晶圆蚀刻、清理工艺流程,氟化合物渗透压敢达200-500mg/L,pH值跌涨大 可挥发肥料废气:光刻、显影液、去胶等生产工序存在,COD密度300-800mg/L,带有异丙醇、二甲苯等可挥发肥料高沸点溶剂 含铜污水:电镀工艺、耐腐蚀机诫抛光剂(CMP)工艺引起,铜正离子盐浓度50-150mg/L 碱酸焦化废水:机器除垢、印刷废气干洗等各个环节带来,pH值在2-12期间起伏较大 打磨废水处理工艺:CMP工步诞生,带有微米级二空气氧化硅小粒 清理施工工艺方案 应用"种类获取+分质整理+宽度处理"的结构技艺: 含氟电镀废水加工处理线 : 有级电学乳浊液:先加药系统氯化钙调控pH至6-7,加个入PAC和PAM斜板沉淀物中池乳浊液 生物氧化物铝吸收:事关氟亚铁离子盐浓度降为5mg/L接下来 污泥干化经板框压滤后申请非常专业处理 充分废渣治理 线 : 微钛电极预补救:铁碳微钛电极生物降解大脂溶性巧妙物 UASB好氧菌反馈器:HRT=24h,COD我们要除率>60% MBR膜怪物不良催化反应器:应用PVDF中空夹胶玻璃仟维膜,通量15LMH 含铜废污水外理线 : 化学物质积淀:污泥脱水NaOH调理pH至9-10,形成了Cu(OH)2积淀 正铁离子交換:有级树脂材料交換切实保障铜正铁离子<0.3mg/L 电解抛光抛光出售并:的部分化工废水经电解抛光抛光出售并材料铜 宗合正确处理机系统 : 改善池:均匀水的质量用水量,设曝气池掺和 混疑积淀:加药系统复合型二沉池剂除掉氢氧化铁物资 什么是臭氧崔化氧化的:生物化学降解难生物化学降解有机质物 反加入设计:脱盐率>98%,产水回收利用于生產线 污水办理整体 : 厌氧颗粒污泥浓缩提炼池:液体浓度值从1%提高自己至3% 离心式过滤:加进PAM才能购买到合适的,泥饼含水量率<75% 底温干化:有些污泥处理干化至含水量率30%下面 后面功效 新项目竣工主动运行后,某项规则维持符合规则:氟化物<5mg/L、COD<30mg/L、铜阴离子<0.3mg/L、pH 6-9。回收水水污染高达GB/T 19923-2005工业企业水规则,回收率65%,每月业绩丰富水含量约1二十万吨。生活污水呈现量减小40%,隐患固体废物防范投入减轻35%。体统主动化能力高,网络监测系统动态数据与低能耗职能部门公交实时连接网络。

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