半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
建设项目底色
该中小型企业专业性生產半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,电镀废水氟溶度不高且化学成分多样化。原本的外工院艺疗效不不稳,氟化物排放量有时超标准。顶目资金2五百万元建没主要外理生活设施,规划外理学习能力500吨/天。
污水有效成分及源
污废水 重要存在制造机械设备进行维护清洁和烟粉尘洗滌:
氟正离子氨水浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钠根阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等彩石原子
办理新工艺步奏
面对高渗透压优缺点,进行"与+多级别沉淀出的+膜处里"技术:
工业废水处理工艺收录池:细分收录各个盐浓度工业废水处理工艺
采和想法池:分环节加药系统氢腐蚀钠和氢腐蚀钙,管理终究pH至7.5-8.
斜管放置池反馈池:添加PAC和PAM提高放置功效
斜管沉淀自己池:高效化固液区分
多材质过滤装置器:的还原不起眼科粒
超滤性和装置:深度.脱盐和除氟
飞灰果汁脱水处理器装置:离心法脱水处理器后飞灰土石方工程职业 处理
百度环境监测系统化系统化:雷达回波图监视氟铁离子密度和pH值
结果是实际效果
外理系统性运作动态数据:
漏电氟阴离子大概密度:2800mg/L
喷水氟阳离子密度:3.2mg/L(一般)
氟彻底清除率:99.9%综上所述
水回收利用率:提升65%
系統系统智能化层度高,保证废水解决解决成本费降底30%,年回报氟化钙副物料约400吨。