半导体封装废水怎么处理方法|半导体封装废水处理案例
活动题材
该企业的最靠近四川省上海市,最主要的从事于高端定制半导体基带芯片基带芯片的封裝测试测试,日排出废发电量约200吨。致使产量历程中用到多样电化学化学剂,废液的成分复杂化,包含有高含量铜、镍等血本属并且聚氨酯聚氨酯、光刻胶等设计水污染源。企业的同一处理公共设施没有需求多种排出规范,肯定需要自动升级改建。
生活污水化学成分及來源
塑胶电镀废水处理工艺
:來起源于处理芯片引脚主轴电镀多种工序,含铜、镍、锡等血本属阴离子,pH值浮动大。
可挥发生产废水
:一般来源于打包封装胶干固、光刻的工艺,含有环氧防锈漆硅胶粘合剂、异丙醇、二甲苯等有机质容剂。
强酸强碱废水处理工艺
:会产生于晶圆洁净和蚀刻繁琐流程,有效氢脱色钠、氢脱色钾、氢脱色钠等。
外理加工制作工艺 施工顺序
预补救阶段中,
腐蚀性采和
:采用投药体系调整pH至6-9,不要事后外理机器腐蚀不锈钢。
沥青混凝土滤渣
:添加PAC(缩聚氯化铝)和PAM(聚丙酰胺),弄掉漂浮物和一些天价属。
重要进行处理关键期
高級氧化的
:通过Fenton免疫试剂(H₂O₂+Fe²⁺)工业制硝酸难光降解无机物,COD的还原率达70%综上所述。
膜过滤装置
:反加入膜(UF)+反加入(RO)女子组合加工,进第一步挪作他用巨资属和融化性有机会物。
深层次外理第一阶段
阴离子互换
:正规对於铜、镍阳离子,抓好出水量天价属量不超0.5mg/L。
特异性炭吸收
:用于决定服务保障,避开残余的微量分析有机的物。
既定视觉效果
经除理后,冒水水污染破坏达到了《电子厂工业生产水污染破坏物尾气排放规范》(GB 39731-2020):COD<50mg/L、铜<0.3mg/L、镍<0.1mg/L,工业废水处理率提拔至60%,几乎每年节约资源使用水进行成本费约80万美金。